@misc{Jakubowski_Andrzej_Applying,
 author={Jakubowski, Andrzej and Beck, Romuald B. and Ćwil, Michał and Głuszko, Grzegorz and Konarski, Piotr and Bieniek, Tomasz},
 howpublished={online},
 publisher={Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa},
 language={ang},
 title={Applying shallow nitrogen implantation from rf plasma for dual gate oxide technology, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2007, nr 3},
 type={artykuł},
 keywords={oxynitride, dual gate oxide, CMOS, gate stack, plasma implantation},
}