@misc{Jakubowski_Andrzej_The,
 author={Jakubowski, Andrzej and Beck, Romuald B. and Ćwil, Michał and Głuszko, Grzegorz and Konarski, Piotr and Schmeißer, Dieter and Hoffmann, Patrick and Mroczyński, Robert},
 howpublished={online},
 publisher={Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa},
 language={ang},
 title={The influence of annealing (900◦C) of ultra-thin PECVD silicon oxynitride layers, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2007, nr 3},
 type={artykuł},
 keywords={CMOS, PECVD, silicon oxynitride, ultra-thin dielectrics},
}