@misc{Jakubowski_Andrzej_Ultra-shallow,
 author={Jakubowski, Andrzej and Beck, Romuald B. and Bieniek, Tomasz and Kudła, Andrzej},
 howpublished={online},
 publisher={Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa},
 language={ang},
 title={Ultra-shallow nitrogen plasma implantation for ultra-thin silicon oxynitride (SiOxNy) layer formation, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005, nr 1},
 type={artykuł},
 keywords={shallow implantation, MOS technology, radiation damage, plasma processing},
}