Tytuł:

Modeling, Simulation and Calibration of Silicon Wet Etching, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2009, nr 4

Autor:

Bieniek, Tomasz ; Janus, Paweł ; Kociubiński, Andrzej ; Duk, Mariusz

Temat i słowa kluczowe:

silicon technology ; anisotropic wet etching ; KOH

Opis:

kwartalnik

Wydawca:

Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa

Data wydania:

2009, nr 4

Typ zasobu:

artykuł

Format:

application/pdf

Identyfikator zasobu:

ISSN 1509-4553, on-line: ISSN 1899-8852

DOI:

10.26636/jtit.2009.4.974

ISSN:

1509-4553

eISSN:

1899-8852

Źródło:

Journal of Telecommunications and Information Technology

Język:

ang

Prawa:

Biblioteka Naukowa Instytutu Łączności