Title:

Modeling, Simulation and Calibration of Silicon Wet Etching, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2009, nr 4

Creator:

Bieniek, Tomasz ; Janus, Paweł ; Kociubiński, Andrzej ; Duk, Mariusz

Subject and Keywords:

silicon technology ; anisotropic wet etching ; KOH

Description:

kwartalnik

Publisher:

Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa

Date:

2009, nr 4

Resource Type:

artykuł

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

ISSN 1509-4553, on-line: ISSN 1899-8852

DOI:

10.26636/jtit.2009.4.974

ISSN:

1509-4553

eISSN:

1899-8852

Source:

Journal of Telecommunications and Information Technology

Language:

ang

Rights Management:

Biblioteka Naukowa Instytutu Łączności