Wyszukiwanie zaawansowane ?

Obiekt

Obiekt planowany

Tytuł: Symulacje, projektowanie i wykonanie apodyzowanej maski fazowej przy użyciu technologii szkieł HEBS

Autor:

Osuch, Tomasz

Data wydania:

2010

Typ zasobu:

rozprawa doktorska

Opis:

Praca posiada charakter teoretyczno-doświadczalny i poświęcona jest opracowaniu nowej technologii z zastosowaniem szkieł HEBS do wytwarzania masek fazowych o zmiennej wydajności dyfrakcyjnej na potrzeby nanoszenia światłowodowych siatek Bragga. W części teoretycznej rozprawy dokonano analizy wpływu położenia światłowodu względem apodyzowanej maski fazowej na rozkład zespolonej amplitudy pola ugiętego w obszarze rdzenia włókna optycznego w procesie nanoszenia siatek Bragga. Zbadano również rozkład zaburzenia pola dyfrakcyjnego na skutek nieciągłego profilu zmian wysokości stopnia fazowego w masce apodyzowanej. Wszelkie zagadnienia ujęte w pracy dotyczą siatek Bragga typu I, to znaczy wykonanych na włóknach fotoczułych laserem o pracy ciągłej. Wyniki symulacji pozwalają w oparciu o teorię dyfrakcji zrozumieć i kontrolować proces nanoszenia siatek Bragga ze szczególnym uwzględnieniem struktur apodyzowanych. W części doświadczalnej zaproponowano nową metodę wytwarzania apodyzowanych masek fazowych stosując szkła HEBS. Zaproponowana technologia składa się z dwóch zasadniczych etapów. W etapie pierwszym podłoże HEBS wykorzystywane jest do rejestracji półtonowego obrazu struktury stosując zmienne dawki ekspozycji w czasie generacji wzoru wiązką elektronów. W etapie drugim warstwa rezystu naniesionego na podłoże naświetlana jest poprzez uzyskaną maskę w standardowym procesie kopiowania (jednakowa dawka dla całej powierzchni maski), a następnie jest wywoływana. Prędkości wywoływania poszczególnych obszarów wzoru (a zatem i grubości warstwy po wywołaniu) różnią się w zależności od dawek energii zaabsorbowanych przez warstwę fotorezystu, wynikających zarówno z warunków naświetlania maski, jak i z lokalnej gęstości optycznej wzoru.Wykonane struktury zostały zweryfikowane eksperymentalnie z użyciem trzech niezależnych metod pomiarowych, tj. pomiar wydajności dyfrakcyjnej, profilometria oraz mikroskopia sił atomowych.

Wydawca:

Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa

Współtwórca:

Promotor: prof. dr hab. Zbigniew Jaroszewicz

Identyfikator zasobu:

sygn. bibl. IŁ S-10360; 122 s.

Język:

pol

Zakres:

praca dostępna w czytelni BN IŁ

Prawa:

Biblioteka Naukowa Instytutu Łączności

Temat i słowa kluczowe:

HEBS glass apodyzowana maska fazowa szkło HEBS fiber Bragg grating światłowodowa siatka Bragga apodized phase mask

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

23 paź 2014

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://bc.itl.waw.pl/publication/2011

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Nazwa wydania Data
×

Cytowanie

Styl cytowania:

Dane kontaktowe

Adres

Instytut Łączności – Państwowy Instytut Badawczy ul. Szachowa 1 04-894 Warszawa

Telefon

(+48) 5128 696

E-Mail

biblioteka@il-pib.pl

Odwiedź nas!

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji