Beck, Romuald B. ; Ćwil, Michał ; Kalisz, Małgorzata ; Barcz, Adam
Subject and Keywords:fluorine ; boron thermal diffusion ; fluorocarbon plasma ; reactive ion etching ; silicon fluoride
Description: Publisher:Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa
Date: Resource Type: Format: Resource Identifier:ISSN 1509-4553, on-line: ISSN 1899-8852
Source:Journal of Telecommunications and Information Technology
Language: Rights Management: