Wystąpił błąd, zgłoszenie nie zostało wysłane. Sprawdź poprawność danych lub spróbuj ponownie później.
Odmowa wysyłania. Niepoprawny tekst z obrazka.
Odmowa wysyłania. Weryfikacja reCAPTCHA nie powiodła się.
Zgłoś błąd związany z obiektem: Ultra-shallow nitrogen plasma implantation for ultra-thin silicon oxynitride (SiOxNy) layer formation, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005, nr 1