Wystąpił błąd, zgłoszenie nie zostało wysłane. Sprawdź poprawność danych lub spróbuj ponownie później.
Odmowa wysyłania. Niepoprawny tekst z obrazka.
Odmowa wysyłania. Weryfikacja reCAPTCHA nie powiodła się.
Zgłoś błąd związany z obiektem: Properties of Al contacts to Si surface exposed in the course of plasma etching of previously grown nanocrystalline c-BN lm, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005, nr 1