Jurczak, Małgorzata ; Rotschild, Aude ; Severi, Simone ; Keersgieter de, An ; Henson, Kirklen ; Mertens, Sofie ; Rooyackers, Rita ; Pollentier, Ivan ; Scaekers, Marc ; Lindsay, Richard ; Lauwers, Anne ; Augendre, Emmanuel ; Veloso, Anabela
Temat i słowa kluczowe:gate stack ; device integration ; gate patterning ; gate dielectrics ; silicon recess ; silicide ; lithography ; CMOS devices ; shallow junctions
Opis: Wydawca:Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa
Data wydania: Typ zasobu: Format: DOI: ISSN: eISSN: Źródło:Journal of Telecommunications and Information Technology
Język: Prawa: