Obiekt

Tytuł: Novel Method of Improving Electrical Properties of Thin PECVD Oxide Films by Fluorination of Silicon Surface Region by RIE in RF CF4 Plasma, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2010, nr 1

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

5 paź 2010

Data dodania obiektu:

5 paź 2010

Liczba wyświetleń treści obiektu:

117

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://bc.itl.waw.pl/publication/849

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Obiekty Podobne

×

Cytowanie

Styl cytowania:

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji