Wyszukiwanie zaawansowane ?

Obiekt

Pobierz

Tytuł: Investigation of barrier height distributions over the gate area of Al-SiO2-Si structures, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2007, nr 3

Autor:

Przewłocki, Henryk M. ; Piskorski, Krzysztof

Data wydania:

2007, nr 3

Typ zasobu:

artykuł

Opis:

Distributions of the gate-dielectric EBG(x, y) and semiconductor-dielectric EBS(x, y) barrier height values have been determined using the photoelectric measurement method. Modified Powell-Berglund method was used to measure barrier height values. Modification of this method consisted in using a focused UV light beam of a small diameter d =0.3 mm. It was found that the EBG(x, y) distribution has a characteristic dome-like shape which corresponds with the independently determined shape of the effective contact potential difference fMS(x, y) distribution. On the other hand, the EBS(x, y) distribution is of a random character. It is shown that the EBG(x, y) distribution determines the shape of the fMS(x, y) distribution. The model of the EBG and EBS barrier height distributions over the gate area has been proposed.

Wydawca:

Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy, Warszawa

Format:

application/pdf

Identyfikator zasobu:

oai:bc.itl.waw.pl:286

DOI:

10.26636/jtit.2007.3.829

ISSN:

1509-4553

eISSN:

1899-8852

Źródło:

Journal of Telecommunications and Information Technology

Język:

ang

Prawa:

Biblioteka Naukowa Instytutu Łączności

Temat i słowa kluczowe:

MOS system barrier height effective contact potential difference

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

24 lip 2024

Data dodania obiektu:

27 sty 2010

Liczba wyświetleń treści obiektu:

134

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://bc.itl.waw.pl/publication/329

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Nazwa wydania Data
Piskorski, Krzysztof; Przewłocki, Henryk M., Investigation of barrier height distributions over the gate area of Al-SiO2-Si structures, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2007, nr 3 24 lip 2024

Obiekty Podobne
Comparison of the barrier height measurements by the Powell method with the ΦMS measurement results, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005, nr 1

Przewłocki, Henryk M. Rzodkiewicz, Witold Piskorski, Krzysztof Kudła, Andrzej

2005, nr 1
artykuł
LPT and SLPT Measurement Methods of Flat-Band Voltage (VFB) in MOS Devices, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2009, nr 4

Przewłocki, Henryk M. Piskorski, Krzysztof

2009, nr 4
artykuł
Effects of stress annealing on the electrical and the optical properties of MOS devices, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005, nr 1

Przewłocki, Henryk M. Rzodkiewicz, Witold Kudła, Andrzej Sawicki, Zbigniew

2005, nr 1
artykuł
Energy concepts involved in MOS characterization, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2007, nr 2

Engström, Olof Gutt, Tomasz Przewłocki, Henryk M.

2007, nr 2
artykuł
Variability of the local ΦMS values over the gate area of MOS devices, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005, nr 1

Przewłocki, Henryk M. Massoud, Hisham Z. Kudła, Andrzej Brzezińska, Danuta

2005, nr 1
artykuł
Więcej
×

Cytowanie

Styl cytowania:

Dane kontaktowe

Adres

Instytut Łączności – Państwowy Instytut Badawczy ul. Szachowa 1 04-894 Warszawa

Telefon

(+48) 5128 696

E-Mail

biblioteka@il-pib.pl

Odwiedź nas!

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji